Полупроводниковые DFB-лазеры 767-852 нм
- Длины волн 767,780,795,852 нм
- Полоса генерации ≤1 МГц
- Выходная мощность до 150 мВт
- Нестабильность мощности ≤0.05%
- Диапазон перестройки +/- 1 нм
Описание
Полупроводниковые DFB лазеры появились с развитием волоконно-оптической связи и интегральных оптических схем. Главной особенностью этих устройств заключается в том, что генерация лазерного излучения обеспечивается оптической связью, образованной периодической структурой материала (или дифракционной решеткой), а не полостью резонатора, образованного между плоскостями кристаллических сколов. Структура DFB — лазера показана на рисунке 1. Поверхность лазерной среды имеет периодическую гофрированную форму , поэтому данная решетчатая структура может полноценно выполнять функции резонатора. Частота лазерного излучения в этом случае полностью определяется период решетки Т.
Рис.1 Структура DFB-лазера
DFB — лазеры имеют широкие возможности перестройки частоты излучения. На рисунках 2 и 3 показана взаимосвязь между длиной волны типичного DFB -лазера, током и рабочей температурой. Скорость электрической модуляции лазера составляет 0,8 ГГц/мА , а частота модуляции температуры лазера составляет около 24 МГц/мК . На рис. 4 показан спектр насыщенного поглощения, полученный при облучении ячейки с атомарным цезием DFB-лазером с длиной волны 852 нм.
Рис.2 Зависимость между длиной волны 852 нм DFB-лазера и током инжекции; Рис.3 Длина волны 852 нм DFB-лазера в зависимости от рабочей температуры
Рис. 4. Линия насыщения атомов цезия, генерируемая DFB-лазером с длиной волны 852 нм для устранения доплеровского фона.
Особенности DFB-лазеров
- большой динамический диапазон захвата частоты
- низкий температурный дрейф
- простота получения одномодового одночастотного излучения
- простота сопряжения с оптическими волокнами, модуляторами и т. д.
- высокая стабильность
Применение
- прецизионная интерферометрия
- оптические стандарты частоты
- атомные часы
- оптическая связь
- лазерные гироскопы
- исследования в области прецизионной спектроскопии
Технические характеристики
Центральная длина волны | 767 нм | 780/795нм | 852 нм | |
Выходная оптическая мощность | 50 мВт | 80 мВт | 100/150 мВт | |
Диапазон регулировки длины волны | ±1нм | |||
Диапазон перестройки без перескока мод | >100 ГГц | |||
Ширина полосы генерации | ≤1 МГц при 50 мс | |||
Нестабильность оптической мощности | Пространственный вывод излучения: ≤0,05% при 10 мин, ≤0,5% при 10 ч (изменение температуры окружающей среды менее 2 ℃);
Волоконный вывод излучения: ≤1%@1ч (изменение температуры окружающей среды менее 2℃) |
|||
Высота оптической оси | 50мм | |||
Волоконный вывод излучения | Оптическое волокно с сохранением поляризации (FC/APC разъем), эффективность сопряжения ≥65%*, коэффициент затухания ≥25 дБ | |||
Рабочая температура | Диапазон регулировки температуры: 15-40 ℃, нестабильность: ≤1 мК при 10 часах | |||
Рабочий ток | Диапазон регулировки тока : 0–200 мА, пульсирующий шум: ≤1 мкА, долговременный дрейф: ≤5 мкА, полоса обратной связи: 150 кГц |
|||
Габариты | Оптический блок: 142*65*77 мм 3 Блок питания: 300*340*150 мм3; Стабилизатор частоты: 483*340*150 мм 3 |
|||
Условия эксплуатации | Температура: 20-30℃, влажность: 20-70% |
О производителе
Beijing Unilight Technology Co., Ltd. является высокотехнологичным предприятием на основе Научного парка Пекинского университета и Школы информационных наук и технологий Пекинского университета. Продукция предприятия охватывает полупроводниковые лазеры с внешним резонатором, полупроводниковые лазерные усилители, лазерные системы со стабилизированной частотой, лазерные системы с удвоением частоты и различные промежуточные и передовые оптоэлектронные обучающие продукты.
Компания придерживается концепции технологических инноваций, уделяет пристальное внимание передовым научным исследованиям, реализует сочетание производства, обучения и исследований и предоставляет высокопроизводительные, высококачественные оптоэлектронные устройства и различные оптические технологические решения для отечественных и зарубежных университетов, научно-исследовательских институтов и промышленных предприятий.