+7 (812) 565-60-60
Работаем по России и странам
Таможенного Союза
Пн - Пт 9:00 - 18:00 (Мск)
Подложки GaN
Подложки GaN

Подложки GaN

  • Диаметр до 4 дюймов
  • Толщина 0.3 - 0.45 мм
  • Одна/двухсторонняя полировка
  • Ориентация <0001>
1 ₽
Количество
шт
Нитрид галлия (GaN) обладает высокой теплопроводностью и радиационной стойкостью. GaN можно использовать не только в качестве широкозонного материала для коротковолновой оптоэлектроники, но и в качестве основного материала для высокотемпературных полупроводниковых устройств. Подложки из GaN могут быть использованы для изготовления зеленых светодиодов, сине-фиолетовых, ультрафиолетовых лазерных диодов, детекторов ультрафиолетового излучения и высокочастотных мощных электронных устройств.

Технические характеристики

Метод роста HVPE
Диаметр 2, 4"
Толщина 0.3, 0.35, 0.4, 0.45 мм
Кристаллографическая ориентация C-axis <0001>
Допустимая разориентация +/- 0.5 град
Легирование Нелегированная, n- типа (легированная Si)
Концентрация примеси (0.1 - 2)x1018 см-3
Полировка Односторонняя или двухсторонняя
Плотность поверхностных дефектов (EPD) <500/cm2, другие по запросу
Шероховатость Ra < 5A @ 5x5 мкм

Подложки Ge

1 ₽
шт

Подложки InP

1 ₽
шт

Подложки SiC

1 ₽
шт

Подложки Si

1 ₽
шт
Войти Регистрация
Корзина 0 позиций
на сумму 0 ₽