ASE-источник диапазона 2750нм OEBLS-100-2.75um
- Длина волны: 2750 нм
- Оптическая мощность: > 50 мВт
- Ширина спектра: > 100 нм
- Стабильность мощности: < 0.05 дБ
- Тип поляризации: случайная
Описание
OEBLS-100 — это серия широкополосных источников излучения непрерывного типа, основанных на принципе усиленного спонтанного излучения (ASE), в котором использует лазерный диод для оптической накачать волокна, легированного ионами редкоземельных металлов. В зависимости о типа активирующей примеси выделяется несколько модификаций прибора, охватывающих спектральный диапазон от 1020 до 3100 нм. OEBLS-100 — это сверхстабильный оптоволоконный источник излучения, оптимально подходящий для системы опроса датчиков ВБР или тестирования волоконно-оптических компонентов. Устройство выпускается в двух основных вариантах конструкции: под ключ и OEM. Недорогая OEM-версия может быть легко интегрирована в качестве элемента более сложной оптической системы, требуется только источник питания 5 В.
Технические характеристики
Модель | OEBLS-100-2750 |
---|---|
Центральная длина волны | 2750 нм |
Ширина спектра (по уровню - 10 дБ) | > 100 нм |
Выходная оптическая мощность | > 50 мВт |
Нестабильность мощности излучения | < 0.05 дБ |
Тип поляризации | случайная |
Тип выходного волокна | SM-ZBLAN |
Тип оптического разъема | Free space или FC |
Регулировка оптической мощности | наличие |
Второй оптический выход | по запросу |
Рабочая температура | 10 - 50 С |
Габариты (модель - под ключ) | 160x320x370 мм |
О производителе
O/E LAND INC. — один из лидеров североамериканского рынка лазерных систем и широкополосных источников излучения, построенных на принципе усиления оптического излучения в легированных оптических волокнах. Компания специализируется на производстве волоконных Брэгговских решеток, датчиков ВБР и измерительных систем для их опроса, фазовых масок, широкополосных ASE-источников, непрерывных и импульсных волоконных лазеров, линзированных волокон, волоконных матриц, драйверов лазерных диодов, миниатюрных температурных камер, элементов системы оптической накачки, пассивных волоконно-оптических компонентов, устройств управления параметрами излучения, а также других элементов микрооптики и оптоэлектроники.