Подложки GaAs
- Диаметр до 6 дюймов
- Толщина 0.35 — 0.65 мм
- Одна/двухсторонняя полировка
- Ориентация <100>,<110>, <111>
Описание
Арсенид галлия (GaAs), пожалуй, наиболее востребованный материал для создания устройств оптоэлектроники и СВЧ-техники благодаря высокой подвижностью электронов. Подложки GaAs применяется при создании эпитаксиальных гетероструктур для светодиодов, лазерных диодов, фотоэлектрических преобразователей, транзисторов с высокой подвижностью электронов и биполярных транзисторов.
Технические характеристики
Метод роста | VGF, VB | |
Диаметр | 2, 3, 4, 6″ | |
Толщина | 0.35, 0.65 мм | |
Кристаллографическая ориентация | <100>,<110>, <111>, доступны варианты с разориентацией 6-10 град | |
Допустимая разориентация | +/- 0.5 град | |
Легирование | Нелегированная, n- типа (легированная Si), p-типа (легированная Zn) | |
Концентрация примеси | (0.5 — 2)x1018 см-3 | |
Полировка | Односторонняя или двухсторонняя | |
Плотность поверхностных дефектов (EPD) | <5000/cm2, другие по запросу | |
Шероховатость | Ra < 5A @ 5×5 мкм |